電気と空気と水蒸気を利用して除菌・脱臭。
薬品は一切使いません。(次亜塩素酸、過酸化水素など)
新型インフルエンザ(H1N1)、ノロウイルス、鳥インフルエンザ、
SARS、連鎖球菌、大腸菌、検出限界まで分解除去
カビ菌、バクテリアの分解除去
VOC 分解除去
悪臭分解除去
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UV光触媒技術 紫外線と金属触媒を利用し、 OHラジカル、過酸化イオン、過酸化水素等によって、最先端の酸化反応(除菌脱臭)を行います。これによって、ウイルス、バクテリア、カビ菌、 VOC、悪臭、大気汚染物質などを破壊します。 |
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高度酸化プラズマ技術 反射型の電磁エネルギーを利用し、高度酸化プラズマをつくります。空気中の酸素と水蒸気を過酸化水素イオンに変えます。これによってウイルス、バクテリア、カビ菌を破壊するだけでなく、VOC.や悪臭、タバコの煙、ダストを除去します。PHIモジュールと比べ、殺菌力は同等ですが、タバコの煙やダスト等の微粒子の捕集に優れています。 |
UV光触媒(PHI-TMIP)技術
RGF社の独占する高度酸化反応プロセスによって、強力かつ安全にウイルス、バクテリア、カビ菌の他、VOC、悪臭、煙を破壊します。
UV光触媒技術(PHI-TMIP)による
最先端の高度酸化(除菌脱臭)技術
強力な2種類の紫外線(254nmと185nm)と特殊合金(二酸化チタン、銀、銅)、及び親水性の表面に吸収された水蒸気と空気中の水蒸気、空気中の酸素と水素によって複合的な化学反応を起こします。これによってモジュール表面と周囲の空間に、高い酸化反応(除菌脱臭)をもたらす物質※を生成します。
紫外線185nmは酸素からオゾンガスを作ります。オゾン分子は紫外線254nmによって酸素になるので、結果として循環されます。
ウイルスやバクテリア、カビ菌、そして悪臭やVOCを酸化(除菌脱臭)した後は、自然界にある 酸素と水蒸気、二酸化炭素に戻ります。
※:過酸化水素、過酸化イオン、OHラジカル、オゾノイドイオン、低レベルのオゾン、水酸化物。これらは高度な酸化(除菌脱臭)物質です。
除菌効果を持つ紫外線で空気を処理するだけでなく、空気を活性化し続けます。
新型インフルエンザH1N1を非活性化
(oct.16.2009 米国カンサス州立大学発表)

設置例
スクラバー、空調エアダクトに簡単に取り付けることができます。
※左上のアイコンをクリックすると拡大します
実 績
99.99%表面のウイルス、バクテリアの減少。
80%以上のVOCの減少。
約1メートルの位置で、人のくしゃみの中の微生物が99%死滅。
空気中の微生物の97%が死滅。
大腸菌、リステリア菌、連鎖球菌、鳥インフルエンザ菌、MASA菌が99%減少。
85%の脱臭。
97%の空気中のカビ菌の減少。
米国軍による野戦病院のカビ防除に対する許可。
病院での感染症に対する許可----米国内及び海外でのMASA菌の99%の減少
食品表面の99%の微生物減少。
米国大都市の学校で、欠席が20%減少。
SARSウイルスの予防に対する中国政府のテストを認証。
食品加工工場での使用に関するUSDA,FSIS、FDAの認証。
RGFの技術は、FOX、ABC、CBS、その他著名な科学雑誌で紹介。