通常の大気圧で、広範囲・高効率のプラズマ表面改質が可能
ADRE(高速電子)プラズマによる高効率処理
ADREプラズマは大気圧下で生成されるため、特別な真空装置や減圧装置、
高価な希ガスが不要
表面改質、洗浄、除菌、活性化、カバーリングなど様々な用途に対応
場所をとらないコンパクト設計。様々な処理コンベアへの組込が可能
最大高60mm×最大幅2600mm(装置によって異なります)
人間や環境に無害です。環境に有害な物質や廃棄物は発生しません
最大10年間の長期動作期間
ARTEMIS

PROTEUS シリーズ
高電圧パルスジェネレータ"PROTEUS-I"と"PROTEUS-II"とコンベアを搭載。
200V、50Hz/60HzのAC入力で最大100kVのナノセコンドインパルスの出力電圧。
Type A(2D)
● LCD、携帯電話、スマートフォン 等のガラス、保護フィルムの表面処理。
● 半導体、ウェハのエッチング
● 自動車部品、建材、家具(木材、金属、プラスチック)のラミネート加工、
ラベル接着の表面処理。
● 太陽電池セルのプラスチック貼り合わせの表面処理
● バッテリーセパレータ、バッテリーセルなど多孔膜の親水加工。
Type B(3D)
● 不織布の表面改質及び滅菌
● 立体電子部品(ボタン、基盤などのフロントパネル)の表面改質、表面洗浄、除菌。
● 液体やガスを通すフィルタ、たばこやエアコンフィルタ等の接着前表面処理、及び除菌。
● ナプキンや非鉄金属の板、トレイ、スプーン等の食器類の表面除菌。
● 図書館、銀行、官庁等の書類・刊行物の除菌。
※ Type C (ガス使用で最大高300mmまで可能)
従来のプラズマとの違い
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ADREでは、最大で50~70keVに及ぶエネルギーをもった高速電子(ランナウエイエレクトロン)が、真空(又は低圧)状態や不活性ガスを使用していない状態でも最大60mmもの長い距離を飛翔することができます。そのため真空空間をつくり出す装置や高価な希ガスを使用する必要なく、高さのある材料や3D製品などの高速な処理が可能です。 |
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従来のプラズマ表面処理はプラズマ粒子のエネルギーが5~7keV程度で、飛翔中に他のプラズマ粒子と衝突し改質のためのエネルギーを消耗します。そのため、真空空間を生成するか、不活性ガスを使用する必要があります。プラズマトンネルがミリスケールの高さとなり、処理する対象物が5~7mm程度に限定されるといった欠点が知られています。 |
エレクトロニクス、マイクロエレクトロニクス
● 半導体(シリコン、ゲルマニウム、等)ウェハーの表面処理、及び洗浄
● マイクロチップの製造過程でのエッチングや実装の表面処理
自動車
● コーティング、カラーリング、相互接着する前のプラスチック部品の活性化
● 印刷及び接着する前のポリマー部品の表面改質
● 基幹部品やフィルム表面の洗浄及び活性化
医療
● 医療機器生産時のコンベア式除菌・医療ツールの除菌
(シリンジ、外科用メス 外科用ガーゼ、包帯
外科用手袋及び衣料 針材料 輸血システム、等)
メンブレンフィルター
● メンブレンフィルター製造時のコンベア式除菌
(ポータブル水浄化用フィルター 産業用水浄化フィルター、
医薬品用途フ ィルター 微生物解析用フィルター、等)
● メンブレンフィルター使用施設での定期的なコンベア式除菌
(サンプルの濾過および微生物解析を行う企業の研究所、医薬品企業、等)
食品
● 食品パッケージング時のコンベア式除菌
テレビ・携帯電話・コンピュータ など
● PDP[Plasma Display Panel]
● LCD[Liquid Crystal Display]
● TVガラス、スマートフォン製造工程での洗浄、表面改質、活性化など
織 物
● 染色のための表面活性化
合成繊維
● 柔軟性調節のための表面改質
● 染色のための表面活性化