平面長尺バルブの採用により、大面積で均一な照射を実現
RF(高周波)放電の採用により、ちらつきの少ない安定した出力を実現
電源のオートチューニング機能により高効率の点灯を実現
172nmの単一波長で、効率の良い処理が可能
瞬時点灯/消灯が可能
エキシマランプでの改質は原子・分子レベルの化学反応によるもののため、基板への損傷や粉塵が発生せず、より高度な改質が必要とされる分野での利用が進んでいます。
改質を行うことで接着性の向上、材料への親水・疎水性の付与などの機能性が向上するほか、改質と同時に材料表面に残留する有機物のコンタミなどを活性酸素などにより酸化洗浄することも可能です。
エキシマランプから放出される波長172nmの真空紫外光は酸素に対する吸収係数が大きいため、高濃度の活性酸素を生成することができます。また、光エネルギーが高い有機物の分子結合切断能力を有しており、
洗浄速度、洗浄品質、歩留まりなどが向上します。特に、ウェット洗浄で除去しきれない汚れ、ウェット洗浄不可な材料、熱によるダメージを受けやすい材料などに対して有効です。